光學薄膜絕對反射率的高精度測量技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著光學薄膜膜系設計理論和鍍膜技術的不斷成熟和完善,高反射率光學薄膜的設計和制備已經成為現(xiàn)實,并且已經廣泛應用于激光技術的研究領域中,特別是在激光諧振腔中使用的高反膜鏡片對反射率要求更高。此外,在研究光學薄膜光學特性時其反射率是衡量薄膜光學特性的重要技術指標??梢哉f光學薄膜反射率的精確測量已經成為制約研究光學薄膜光學特性和高反射率光學薄膜制備與應用的重要技術瓶頸。因此,對光學薄膜反射率的高精度測量技術研究具有重要的研究意義。 本

2、文首先對現(xiàn)有的各種反射率測量技術和方法進行了介紹,并分析論述了各種測試方法的優(yōu)缺點和適用范圍,在對高反射率光學薄膜測量的測試量特性分析研究的基礎上提出了基于積分球的高反射率光學薄膜測試方案并進行了理論論證和改進完善。并具體展開對本測試方案的實現(xiàn),進行的主要工作包括以下幾方面:首先根據測試原理,完成了測試光路系統(tǒng)的設計和搭建,主要包括積分球各參數的設計及積分球的制作,掃描振鏡的選擇和調試,掃描振鏡擺角的確定等;根據測試信號很微弱的特點,選

3、擇靈敏度很高的光電池作為光電轉換器件,設計了靈敏度很高的測試電路系統(tǒng),主要包括光電轉換電路,帶通濾波電路和前級放大電路等的設計和制作;通過與集成鎖相放大器的連接和調試最終完成整體測試系統(tǒng)的調試,并對測試樣品進行實際測試,驗證其測試精度并對測試系統(tǒng)進行了改進和完善,標定了系統(tǒng)的最終測試精度為0.05%,測試的高反膜鏡片反射率測試值最高為99.9%,對系統(tǒng)各部分的誤差影響因素進行了定量分析,得出影響系統(tǒng)測試精度的主要誤差因素為整體測試電路的

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