半導體工藝刻蝕速率DOE改進與研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、半導體芯片工藝流程中刻蝕工序是一個十分重要的工序，而刻蝕工藝中最重要的工藝參數(shù)就是刻蝕速率，而有很多參數(shù)直接影響到刻蝕速率，我們使用DOE實驗設計的方法，找出直接影響刻蝕速率的最重要的一個參數(shù)，然后對這個參數(shù)進行優(yōu)化，達到不同機臺間刻蝕速率的匹配。 本文主要針對實際生產中兩個機臺刻蝕速率的差異，對大量原始數(shù)據進行分析，去掉異常點。再根據工藝流程的實際情況，忽略次要的參數(shù)，對其中的三個最重要參數(shù)進行DOE實驗。運用Minitab軟

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