新型KDP晶體生長方式流動與傳質特性數值模擬及實驗研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、磷酸二氫鉀(KDP)晶體具有非常優(yōu)良的非線性光學特性,是目前唯一可用于慣性約束核聚變的激光點火材料,快速地生長出高質量的KDP晶體具有重要的實際價值。該晶體生長是在水溶液中進行,溶液的流動對晶體的生長具有重要影響。對流一方面能顯著地促進生長所需的物質輸運,提高晶體的生長速度;另一方面對流可能會引起晶體表面形貌失穩(wěn),導致包裹物缺陷的產生,降低晶體生長質量。
  晶體表面形貌失穩(wěn)是包裹物形成的重要原因,晶面形貌穩(wěn)定與否取決于晶/液界面

2、上的對流傳質特征。晶體附近溶液流動和晶面濃度(或過飽和度)分布是相界面對流傳質情況的直接反映。但是,由于復雜的幾何結構以及晶體的高速運動,實時獲得生長過程中的溶液流動和過飽和度分布情況,目前的實驗手段幾乎不能實現。因此,數值模擬是研究溶液法晶體生長流動與傳質的一種必要手段。
  基于以上背景,本文從工程熱物理學科角度出發(fā),利用數值模擬手段分析和討論了特定運動方式下KDP晶體生長晶/液相界面的對流傳質特征。針對傳統(tǒng)轉晶法存在的不足,

3、設計和提出了兩種新型的晶體運動方式,以求在利用對流提高晶體生長速度的同時,提高晶體的生長質量。采用數值模擬和實驗研究相結合的方式,證明了所提出的新型晶體生長方式更有利于晶面形貌保持穩(wěn)定和提高晶體生長質量。具體的研究內容如下:
 ?。?)實時模擬了轉晶法KDP晶體生長過程中,晶面過飽和度分布和變化情況。結果表明:隨著晶體的加、減速轉動,晶面過飽和度大小和分布規(guī)律隨之變化,單位周期內晶面過飽和度有較大波動。轉晶法中,晶面過飽和度分布較

4、不均勻;隨著晶體尺寸的增長,晶面過飽和度場不穩(wěn)定,單位周期內晶面過飽和度波動加劇;此種過飽和度分布和變化特征不利于晶面形貌保持穩(wěn)定,易導致生長缺陷的產生。
  (2)在分析總結導致晶體質量下降的水動力學原因基礎上,根據對流對晶面形貌穩(wěn)定性影響機理,提出了晶體作三維運動的溶液晶體生長方法。模擬了該方法KDP晶體生長過程中,晶面附近的流動和物質輸運情況。同時,開展了三維運動法和轉晶法KDP晶體生長對比實驗。模擬結果表明,運動速度的增加

5、在提高晶面過飽和度大小的同時,提高了其分布均勻性,同時有助于晶體生長速度和生長質量;運動距離對晶面過飽和度場影響較??;體過飽和度的提高能顯著提高晶面過飽和度大小,但會損壞其分布均勻性。三維運動法中,晶面附近大部分區(qū)域溶液流動方向能周期性交替反轉;自然對流作用僅在較低運動速度時較為顯著;物質輸運和表面反應都對晶體的生長有限制作用。與轉晶法相比,三維運動法晶面過飽和度分布更為均勻,晶面形貌更為穩(wěn)定。實驗結果確認,三維運動法生長出的晶體質量優(yōu)

6、于轉晶法。
 ?。?)在證明了三維運動法優(yōu)勢前提下,結合KDP晶體應用實際,即:需要尺寸達20cm-50cm的晶體,對工業(yè)級尺寸的KDP生長過程進行了三維、時相關、湍流模擬,以驗證三維運動法是否適用于KDP晶體的實際生產。比較討論了工業(yè)級KDP晶體生長時,溶液流動和晶面過飽和度分布特征;分析了湍流對生長界面?zhèn)髻|特性的影響;考察了晶面過飽和度場隨晶體長大過程的變化。對比了大、小尺寸晶體生長時,相關考察參數的差異。結果表明:雖然晶體尺

7、寸大幅增加,但工業(yè)級KDP晶體生長過程中,晶面附近總體的流動特征與小尺寸晶體生長時類似。此時,僅尾流錐面中心附近的流動特征發(fā)生了變化,使得錐面中心的過飽和度明顯降低。湍流極大地促進了晶/液界面上的物質輸運,Damkohler數顯著提高。晶體尺寸的增加會擴大晶面邊緣和中心的過飽和度差異,但能降低晶面過飽和度梯度。與小尺寸晶體生長相比,工業(yè)級KDP晶體生長時,相關的考察參數更為優(yōu)異。這些分析結果表明,三維運動法在KDP晶體工業(yè)生長中優(yōu)勢將更

8、為突出。
  (4)針對三維運動法中晶體固定在擎晶桿上可能會導致應力集中的問題,提出了帶頂板或托盤的二維運動生長方法。針對該方法生長工業(yè)級KDP晶體過程,進行了數值模擬。在模擬結果指導下,開展了KDP晶體生長實驗。模擬結果表明:運動速度對晶面過飽和度場影響最為顯著,運動速度的增加同時有助于晶體生長速度和生長質量的提高。延長運動距離對晶面平均過飽和度和均方差影響較小,但會提高晶面的過飽和度梯度。隨著晶體的長大,晶面過飽和度梯度顯著下

9、降。采用擺放方式(b),能進一步改進晶/液界面的對流傳質特性,提高晶面形貌穩(wěn)定性。相比于轉晶法,二維運動法單位周期內晶面過飽和度波動較小;錐頂附近自然對流作用較弱;晶面附近溶液流動能夠交替反向;這些特征更有助于晶面形貌保持穩(wěn)定,提高晶體生長質量。晶體生長實驗表明:隨著運動速度的增加,晶體的生長速度和生長質量都有提高;晶體擺放由方式(a)改變?yōu)榉绞剑╞)后,生長質量有進一步提高;相同生長條件下,二維運動法生長出的晶體,質量上優(yōu)于轉晶法生長

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