黃瓜穴盤育苗基質(zhì)配方及環(huán)境調(diào)控技術研究.pdf

1、穴盤育苗是近年來設施園藝研究的一個熱點，而對穴盤苗生長發(fā)育與基質(zhì)、水分、溫度等環(huán)境條件之間關系的深入研究是穴盤苗生產(chǎn)技術提高和普及的重要依據(jù)。本文以當?shù)氐挠袡C廢棄物醋糟為原料，進行了適合黃瓜穴盤苗生產(chǎn)的基質(zhì)配方研究，并針對醋糟育苗基質(zhì)的特性進行了不同灌溉量、不同溫度對穴盤苗影響的試驗，建立了基于生長度日的黃瓜穴盤苗發(fā)育進程的模型以及基于壯苗系數(shù)的黃瓜穴盤苗的評價指標模型。主要研究內(nèi)容和結果如下：
　　 1.以當?shù)蒯劥坠I(yè)廢棄物醋

2、糟為主要材料，經(jīng)發(fā)酵后與草炭、蛭石等按不同比例復配成7種不同的基質(zhì)，進行了基質(zhì)間理化性狀及對黃瓜穴盤生長及生理特性影響的比較研究。結果表明，醋糟與草炭混合比為1:1時基質(zhì)育苗效果最好，醋糟、草炭與蛭石混合比為2:1:1及醋糟與草炭混合比為3∶1也取得了良好的育苗效果，這三種基質(zhì)可以作為黃瓜穴盤苗生產(chǎn)的基質(zhì)加以使用。
　　 2.以上述試驗篩選的醋糟與草炭、蛭石混合比為1:1的基質(zhì)為基礎，采用穴盤基部供水法，以基質(zhì)的飽和含水量為灌水

3、上限，設置了飽和含水量的65％、55％、45％、35％四個下限指標，進行了不同灌溉下限處理對黃瓜穴盤苗生長發(fā)育，光合特性以及葉綠素熒光特性的研究。綜合分析結果表明，黃瓜穴盤苗在下限處理為55％時植株生長健壯，壯苗指數(shù)高，光合能力強，光能利用率高，45％下限處理次之。因此，推薦在育苗過程中以45％-55％為灌溉下限指標。
　　 3.在夜晚溫度為15℃條件下，設置了不同晝夜溫差處理對黃瓜穴盤苗的生理生化指標影響的試驗。結果表明在晝夜

4、溫差為+6℃(即晝溫為21℃)時黃瓜穴盤苗生長速度最快，葉面積最大，壯苗指數(shù)最高，光能利用率最強；其次為晝夜溫差為+9℃(即晝溫為24℃)，也取得了較好的育苗效果。
　　 4.把黃瓜穴盤苗的生長按不同的過程劃分為發(fā)芽、子葉、一葉、成苗四個階段，采用生長度日法建立了黃瓜穴盤苗生長進程的模擬模型，確立了黃瓜穴盤苗在各個生育階段的生長度日參數(shù)。采用JohnsoSchumacher模型，對不同有效積溫下的黃瓜穴盤苗壯苗指數(shù)進行了模擬，通