18283.電噴霧質譜中n芳基內酰胺斷裂反應機理研究_第1頁
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文檔簡介

1、ZHEJIANGUNIVERSITYOFTECHNoLOGYDISSERTATIONFORMASTERDEGREESTUDⅥNGoNTHEFRAGⅣⅡ￡NTATIoNREACTIoNoFNARYLLACTAMSINELECTROSPRAYIONIZATIONMASSSPECTRoMETRIY、vRITTENBYRuonanCaiSUPERVISEDBYAssociateProLXiaojiCaoCollegeofChemicalEngi

2、neeringZhejiangUniversityofTechnologyPRChinaJune2015浙江工業(yè)大學碩士學位論文電噴霧質譜中N芳基內酰胺斷裂反應機理研究摘要內酰胺基團是很多天然生物活性分子的重要結構單元。應用電噴霧電離高能量碰撞誘導解離質譜技術研究N芳基內酰胺類化合物的氣相質譜反應對該類化合物的結構鑒定、構效關系以及代謝研究具有重要意義。本論文結合電噴霧串聯(lián)質譜技術、氘代實驗和量子化學理論計算方法研究了兩類N芳基內酰胺化

3、合物的質譜斷裂反應機理。主要內容包括以下兩個部分：1質子化的二環(huán)己內酰胺類化合物的質譜斷裂反應機理研究質子化的二環(huán)己內酰胺類化合物高能量碰撞誘導解離，中性丟失肉桂醛衍生物產生碎片離子a，中性丟失2羰基N苯基丁酰胺衍生物則生成碎片離子b。取代基效應研究表明，供電子基團傾向于丟失一分子2羰基N苯基丁酰胺衍生物，而吸電子基團傾向于丟失一分子肉桂醛衍生物。密度泛函理論計算表明：內酰胺的氧原子是該類化合物熱力學最穩(wěn)定的質子化位點，當外加質子通過質

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