AZ31鎂合金微弧氧化膜制備工藝的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文以提高鎂合金的耐磨性和耐腐蝕性為目的,研究了AZ31B鎂合金的微弧氧化工藝。分別探討了以硅酸鹽、磷酸鹽為主要成膜劑的電解液以及多種輔助劑對鎂合金進行表面微弧氧化處理的影響。通過正交試驗的分析確定了微弧氧化電解液的最佳配比濃度,研究了微弧氧化電參數(shù)對AZ31B微弧氧化的影響并結合鎂合金微弧氧化膜層的表面形貌、相組成、膜層厚度、結合力及耐腐蝕、耐磨性能等檢測結果進行了理論分析。 研究結果表明,以硅酸鹽為主要成膜劑,加入氟化鈉、氫

2、氧化鉀和甘油等輔助劑之后,較僅采用單一成膜劑時形成的微弧氧化膜層性能有明顯的提高。主要表現(xiàn)在鎂合金在較短時間內可以穩(wěn)定起弧,微弧氧化膜層表面平整,孔徑較小且分布均勻,使膜層的結合力以及耐腐蝕性能也得到顯著的提高。對于AZ31B鎂合金而言采用恒壓模式進行微弧氧化,由于在反應過程中電壓逐漸下降,使得膜層的性能與質量較難控制。如在恒壓控制模式下加以適當?shù)呢撓螂妷?,便可使AZ31B在較高且較平穩(wěn)的電流密度下進行微弧氧化處理,使得膜層的厚度和耐腐

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