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文檔簡介
1、LED作為一種重要的數(shù)據(jù)傳輸接受器件被廣泛應用于光纖通信、數(shù)據(jù)鏈接、遠程控制器、光學顯示器等領域。但是傳統(tǒng)LED有許多與生俱來的缺點,比如發(fā)射效率低,輻射角度寬,光譜線寬較大,而且調制速率比較低。因此,為了克服這些問題,一種帶有諧振腔結構的LED(RCLED)具有獨特的優(yōu)勢。與傳統(tǒng)LED相比,RCLED光譜線寬窄,耦合效率高,亮度大,是用于視覺顯示和塑料光纖通信的理想光源。而且,RCLED不像垂直面發(fā)射激光器那樣需要復雜的外延和后續(xù)工藝
2、。近幾年來隨著塑料光纖通信和網絡技術的不斷發(fā)展,RCLED在全世界受到越來越廣泛的關注,特別是紅光RCLED在塑料光纖數(shù)據(jù)通信領域扮演了重要角色。因為聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基塑料光纖在650nm附近有最小衰減和較寬直徑(0.75-1mm),使得兩者能夠很好匹配。
但是,RCLED在我國大陸地區(qū)還沒有得到任何發(fā)展,這在一定程度上阻礙了光通信技術的進步。在北京市教育委員會科技計劃面上項目(批準號:KM2008100050
3、02)和北京市屬市管高等學校人才強教計劃資助項目等項目的支持下,本論文參照國外在RCLED領域的研究經驗,配合實驗室現(xiàn)有條件,多次實驗,成功制作出了波長為650nm的AlGaInP材料系的RCLED,器件發(fā)光良好,工作壓降較低,達到了一定的輸出光功率,為本項目的進一步深入研究提供了理論依據(jù)、實驗基礎以及相關工藝參數(shù)。具體工作如下:
(1)在研究RCLED發(fā)光理論的基礎上,制作了650nm RCLED的外延結構:微腔厚度為1
4、λ,有源區(qū)采用了GaInP/(Al0.5Ga0.5)0.5In0.5P3量子阱結構;阱和壘的寬度都為5nm,阱和壘的材料分別為GaInP和(Al0.5Ga0.5)0.5In0.5P,上DBR為15對、10對或5對的(Al0.3Ga0.7)0.5In0.5P/AlInP材料,下DBR為34對AlAs/Al0.5Ga0.5As材料。
(2)使用PL譜測試和白光反射普測試實驗,對3量子阱結構的發(fā)射譜,微腔結構模式波長、上下DBR
5、發(fā)射率峰值波長進行了驗證,對生長好的外延片進行SEM掃描觀測。
(3)研究學習LED的基本工藝,歸納各工藝特點,并參照國外RCLED的制作工藝,結合實驗室現(xiàn)有條件,完成用于通信光源的SiO2阻擋層RCLED制作工藝流程,制作出最大光強為21.4mcd(C=0.0°,G=-4.5°),平均光強擴散角θ(50%)=86.9°,F(xiàn)WHM為13.1 nm的RCLED。
(4)針對制作好RCLED器件電光轉換效率低,電
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