FCVA沉積（Ti，Al）N薄膜的工藝研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本論文針對表面涂層技術(shù)在高速切削刀具中的應(yīng)用，對采用磁過濾陰極弧源沉積技術(shù)(FCVA)制備(Ti．Al)N薄膜的工藝，系統(tǒng)地進(jìn)行了研究。 在制備的過程中，通過改變氮氣的流量、基底偏壓、基體溫度，用磁過濾陰極弧源沉積技術(shù)(FCVA)先后在硅片、高速鋼和硬質(zhì)合金上制備了較高硬度的(Ti,Al)N薄膜，并隨之進(jìn)行了工藝評定。 利用AMBIOS XP-2臺階儀測量薄膜的厚度；使用X射線衍射(XRD)對薄膜的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征；采用H

2、XD-1000顯微硬度儀、CSEM球盤摩擦磨損試驗機、洛氏硬度儀等分別研究了薄膜的硬度、摩擦磨損和膜基結(jié)合力。 試驗結(jié)果表明，采用Ti，Al原子比為1：1的靶材在不同的氮氣分壓下制成的樣品薄膜在硬度方面有差異，在氮氣分壓為1.1×10<'-1>pa左右時硬度達(dá)到最高點，隨氮氣流量的增加呈先增高后降低的趨勢。加熱環(huán)境下制備的薄膜結(jié)晶質(zhì)量好，致密度高，降低了薄膜的摩擦系數(shù)，提高了薄膜的抗氧化性能。不同偏壓下薄膜的結(jié)構(gòu)和性能也不相同在

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