精密晶圓檢測(cè)儀光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)驗(yàn).pdf

1、隨著電子科學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展和電子類產(chǎn)品集成度和性能的不斷提高，晶圓的生產(chǎn)規(guī)模也在不斷地?cái)U(kuò)大。對(duì)半導(dǎo)體晶圓表面缺陷的在線檢測(cè)，成為半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中極其重要的一環(huán)。本文從光學(xué)表面檢測(cè)的原理入手，開(kāi)發(fā)研制了一種基于偏振光干涉成像及相移干涉術(shù)的精密晶圓檢測(cè)系統(tǒng)和裝置。
　　本文首先全面的分析了光學(xué)表面形貌檢測(cè)方法的原理，對(duì)干涉測(cè)量技術(shù)做了細(xì)致研究，在偏振光干涉成像及相移干涉術(shù)的理論基礎(chǔ)上，經(jīng)過(guò)比較分析找出最適合課題要求和實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)環(huán)境的方

2、法，制定了精密晶圓檢測(cè)儀的光學(xué)系統(tǒng)方案。
　　對(duì)相移偏振干涉測(cè)量進(jìn)行了深入的理論研究。通過(guò)對(duì)沃拉斯頓棱鏡干涉儀的深入學(xué)習(xí)，結(jié)合雙折射晶體的有關(guān)理論，提出了用平行平板晶體替代沃拉斯頓棱鏡實(shí)現(xiàn)分光束干涉的方法。并將各種方法結(jié)合起來(lái)，找到了一種能夠有效避免原微分相稱干涉儀中，利用沃拉斯頓棱鏡產(chǎn)生的被測(cè)物與物鏡距離過(guò)于接近、被測(cè)物需要繞軸旋轉(zhuǎn)等一系列問(wèn)題，設(shè)計(jì)了一套符合項(xiàng)目要求、適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā)環(huán)境的實(shí)驗(yàn)裝置，簡(jiǎn)單有效地達(dá)到了課題的要求。<