高溫太陽(yáng)能選擇性吸收涂層的設(shè)計(jì).pdf

1、繼中低溫太陽(yáng)光譜吸收涂層的研制成功和廣泛應(yīng)用，高溫太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層（簡(jiǎn)稱高溫吸收涂層）成為當(dāng)前國(guó)際該領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)，其應(yīng)用前景十分廣闊。 本文在近幾年國(guó)際高溫涂層研究的基礎(chǔ)上，根據(jù)理論研究和實(shí)驗(yàn)結(jié)果從幾方面因素如材料、膜層結(jié)構(gòu)、陶瓷中金屬組分等分析了其對(duì)高溫吸收涂層效率的影響。 本課題以Mo-Al2O3雙吸收層模型為出發(fā)點(diǎn)，利用計(jì)算機(jī)模擬了金屬體積分?jǐn)?shù)和膜層厚度變化下整個(gè)涂層的吸收特點(diǎn)，逐步設(shè)計(jì)出一系列具有新減反射

2、層結(jié)構(gòu)的選擇性吸收涂層，如Mo-Al2O3/SiO2，W-AlN/SiO2，Ru-Al2O3/SiO2，Ru-CuO/SiO2。這種減反射層結(jié)構(gòu)適用于大多數(shù)金屬陶瓷吸收涂層，不僅提高了涂層的吸收率（吸收率α=0.93~0.95），同時(shí)有效的控制了發(fā)射率（350℃下發(fā)射率ε=0.03~0.05）。鑒于材料組成本身良好的熱穩(wěn)定性以及在某些情況下更簡(jiǎn)單的制備工藝，有望應(yīng)用在高溫集熱裝置上。 研究的幾點(diǎn)創(chuàng)新性還在于：1. 首次利用兩種折