軟刻蝕法制備分布反饋式固態(tài)染料激光介質的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著激光器向著固態(tài)化和小型化發(fā)展,基于分布反饋(Distributed-feedback,DFB)結構的固態(tài)染料激光介質在光學集成、實用化的方向上具有舉足輕重的地位。分布反饋激光器由于具有無腔鏡、窄線寬、可調諧、易于集成和超短脈沖輸出等重要特性,在很多應用領域、科研方向有著廣泛的發(fā)展前途。染料激光介質的固態(tài)化能簡化龐大的液態(tài)循環(huán)裝置且更換方便,可延長染料使用壽命,減少染料對人體可能的毒害。軟刻蝕技術作為一種非傳統(tǒng)光刻蝕技術在微結構制造領

2、域有著顯而易見的優(yōu)越性。
   本文旨在研究基于軟刻蝕技術制備分布反饋式固態(tài)染料激光介質,并開展了以下幾方面的研究工作:⑴使用全息雙光束干涉方法制備一維及二維光柵,作為軟刻蝕法復制分布反饋結構的母版。⑵研究軟刻蝕技術的工藝流程,選擇合適的印章材料、獲得關鍵參數(shù),為復制分布反饋結構提供實驗基礎。⑶利用溶膠.凝膠法,通過設計、調整先驅體組成,獲得適合制備分布反饋結構的含鋯及含乙基兩種雜化薄膜波導的工藝技術。運用棱鏡耦合儀對樣品厚度和

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