化學(xué)氣相沉積法制備寬帶硬質(zhì)薄膜材料.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè)，還剩102頁(yè)未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明：本文檔由用戶(hù)提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、考慮到目前寬帶硬質(zhì)半導(dǎo)體薄膜材料制備中存在的問(wèn)題,對(duì)傳統(tǒng)的CVD方法進(jìn)行改造,以新型的DBD為離子源成功構(gòu)建出運(yùn)行穩(wěn)定的DBD-CVD系統(tǒng),沉積出寬帶硬質(zhì)DLC薄膜;采用熱絲與電容耦合式射頻等離子體共同輔助CVD的方法,在商用石英襯底上沉積出帶隙可調(diào)的寬帶硬質(zhì)BPxN1-x薄膜。本文介紹了介質(zhì)阻擋化學(xué)氣相沉積技術(shù)(DBD-CVD)、類(lèi)金剛石(DLC)薄膜、氮化硼(BN)薄膜等的研究進(jìn)展。對(duì)DBD及DBD-CVD的歷史、理論及應(yīng)用做了全面

2、的總結(jié);對(duì)DLC薄膜和BN薄膜的結(jié)構(gòu)、性能、應(yīng)用和制備方法做了詳細(xì)的分析和討論。DBD作為一種典型的非平衡等離子放電形式,具有很廣泛的應(yīng)用前景,它可以在常壓下運(yùn)行,也可以在低氣壓下運(yùn)行,提供高能量的等離子體,從而降低沉積溫度,提高沉積速率。DLC薄膜是一種重要的寬帶硬質(zhì)半導(dǎo)體薄膜,它具有高硬度、低摩擦系數(shù)、良好的化學(xué)惰性、容易大面積成膜等優(yōu)異性能。BN薄膜是一種具有廣泛應(yīng)用前景的Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體,它的禁帶寬度較寬(6.4eV),硬度

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽，若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間，僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請(qǐng)與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論